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ScopeX PILOT臺(tái)式鍍層測(cè)厚儀畫(huà)冊(cè)

產(chǎn)品概述：

ScopeX PILOT臺(tái)式鍍層測(cè)厚儀采用下照式設(shè)計(jì)，搭載先進(jìn)的Muti-FP算法軟件和微光聚集技術(shù)，以及高敏變焦測(cè)距裝置， 對(duì)不均勻、不規(guī)則，甚至微小件等形態(tài)的樣品，都能夠快速、精準(zhǔn)、無(wú)損檢測(cè)，可輕松應(yīng)對(duì)鍍層領(lǐng)域的表面處理的過(guò)程控制、產(chǎn)  品質(zhì)量檢驗(yàn)等環(huán)節(jié)中的檢測(cè)和篩檢難題，被廣泛應(yīng)用于珠寶首飾、電鍍行業(yè)、汽車(chē)行業(yè)、五金衛(wèi)浴、航空航天、電子半導(dǎo)體等  多種領(lǐng)域。

產(chǎn)品原理：

用X射線(xiàn)轟擊樣品，樣品受激發(fā)后產(chǎn)生X射線(xiàn)熒光。X射線(xiàn)通常把元素原子K層和L層的內(nèi)層電子打?qū)缭?，產(chǎn)生的空穴被高能量的 外層電子填補(bǔ)。補(bǔ)充到低能量軌道上的高能量電子把多余的能量以X射線(xiàn)熒光輻射岀來(lái)。這些輻射岀來(lái)的譜線(xiàn)中含有各種元素的 特征。像指紋一樣，并且獨(dú)立于原子的化學(xué)價(jià)態(tài)。輻射的強(qiáng)度與樣品中該元素的濃度成正比。

儀器工作原理

ScopeX  PILOT臺(tái)式鍍層測(cè)厚儀使用微聚焦X射線(xiàn)管將X射線(xiàn)源的大部分射線(xiàn)收集并匯聚成微束斑，照射在樣品位置， 從而獲得良好的空間分辨率及很強(qiáng)的熒光信號(hào)，通過(guò)能譜探頭及后續(xù)的數(shù)據(jù)處理器等采集、處理并評(píng)價(jià)樣品被輻照后產(chǎn)  生的熒光信號(hào)，得出樣品的成分信息。它可實(shí)現(xiàn)更復(fù)雜應(yīng)用的快速測(cè)量和精準(zhǔn)分析，是對(duì)不均勻或形狀不規(guī)則的未知樣 品以及微觀(guān)物體進(jìn)行元素分析的理想方法。

性能優(yōu)勢(shì)：

1、微焦X射線(xiàn)裝置：測(cè)試各類(lèi)極微小的樣品，即使檢測(cè)面積微 小的樣品也可輕松、精準(zhǔn)檢測(cè)。

2、無(wú)損檢測(cè)：X射線(xiàn)熒光是無(wú)損分析過(guò)程，不留任何痕 跡，即使是對(duì)敏感性材料，其測(cè)量也是非 常安全的。

3、多準(zhǔn)直器濾光片：多濾光片和多準(zhǔn)直器可選或軟件自動(dòng)切 換組合，使得儀器的多功能性得以顯著提 升，以靈活應(yīng)對(duì)不同尺寸的零件。

4、變焦裝置：可對(duì)各種異形凹槽樣品進(jìn)行檢測(cè)，凹槽深 度測(cè)量范圍可達(dá)0~30 mm。

5、下照式設(shè)計(jì)：從下往上測(cè)量，無(wú)需額外對(duì)焦，可輕松實(shí) 現(xiàn)對(duì)鍍層樣品的高效測(cè)量。

6、高精度手調(diào)：搭載高精度手調(diào)X-Y平臺(tái)，最高精度可達(dá) 25μm，使微區(qū)測(cè)量更便捷。

規(guī)格參數(shù)：

1、元素范圍：Al(13)-Fm(100)

2、分析層數(shù)：5層（4層+基材）每層可分析10種元素，成分分析最多可分析25種元素

3、X射線(xiàn)管：50 W（50kV，1mA）微聚焦鎢鈀射線(xiàn)管（靶材可選配）

4、探測(cè)器：Si-Pin探測(cè)器，(可選配高靈敏度SDD探測(cè)器)

5、準(zhǔn)直器：φ0.1-φ3可選，多準(zhǔn)可選

6、相機(jī)：高分辨率CMOS彩色攝像頭，500萬(wàn)像素

7、放大倍數(shù)：40x-160x

8、手動(dòng)樣品：XY平臺(tái)移動(dòng)范圍：50x50 mm

9、濾光片：固定初級(jí)濾光片，多濾光可選形尺寸

10、樣品倉(cāng)尺寸：320×480×130mm（W×D×H）

11、外形尺寸：330×580×360mm（W×D×H）

12、重量：40KG

13、電源：AC 220V±5V 50Hz(各地區(qū)配置稍有不同)

14、額定功率：150W

應(yīng)用領(lǐng)域：

緊固件、五金小零件、珠寶首飾、汽車(chē)零部件